关键性的突破!又一世界首台新型装备通过验收,中科院再立新功!

来源:1号哨所 2018-12-02 16:12:51

近几年来中国的发展,我们有目共睹,虽然我们起步较晚,但我们同西方的距离却在一点一点的被拉近。在前不久的珠海航展上,歼-10B推力矢量验证机以多个经典过失速动作向世界宣告,困扰着我国先进战机发展的“心脏病”问题,将不复存在。随后在近日,另一个“心脏病”方面也传出了好消息。

据媒体11月29日的报道称,中国科学院光电技术研究所再立新功,研制出世界首台分辨力最高紫外超分辨光刻装备,在当日通过验收。也就是说,我国拥有了属于自己的先进光刻机了。根据介绍,这款光刻机的光刻分辨力达到了22纳米,然后结合多重曝光技术,未来可以用于10纳米级的芯片制造中。

一直以来,生产芯片的光刻机就是我国在半导体设备制造上的最大短板,此次中科院光电技术研究所可以说是取得了关键性的突破。而更重要的是,此次我们建立了一条高分辨、大面积的纳米光刻装备研发新路线,绕过了国外相关知识产权壁垒,走出了我们自己的路。

此前我们在研制光刻机时,就深受国外相关知识产权的钳制,让我们只能受制于人,仰人鼻息。但现在我们有了自己的路之后,中国芯片制造的未来将是一片光明的。对此有网友感叹道,“技术难度倒是其次的,绕过专利壁垒这个真的是太难了。所以现在荷兰才屁颠屁颠的跑到中国来,将此前一直肯出售的光刻机卖给了中国。”

西方的先进技术、装备一直以来都对中国实行着禁运,以期望中国的崛起得到阻止,但中国人总是在困境中闯出一条自己的路。可随后西方就解除禁运,利用先发优势让我们“无路可走”。

作为集成电路制造业当中的核心角色,光刻机的先进程度就决定了其能制造芯片的先进程度。目前全球只有极少数国家能生产先进的光刻机,而这方面荷兰的ASML(阿斯麦)公司就是领域内的佼佼者,毕竟只有ASML的光刻机能做到7纳米的加工极限。

不久前,ASML公司就开放对中国的订单,国内行业巨头就已经与ASML展开7纳米工艺制程的EUV订单洽谈,现在中国绕过了产权壁垒,走出自己的路,相信洽谈一定会相当顺利。因此也有人称“每次我们只用取得什么新的技术突破,不论中国的技术是不是顶尖,中国都有了拥有顶尖技术的机会。”

远的不说,至少在我国拥有了世界首台分辨力最高的紫外超分辨光刻装备后,我国的雷达芯片的制造工艺将上升一个水平。毕竟精度高了芯片就会变小,小了重量就会变轻,这也就让以后我国的雷达将变的更轻,战机也能得有更大的载荷,未来中国也将变得更强。(智忠)

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